蒸發(fā)臺行星鍋對沉積金屬薄膜均勻度的影響

蒸發(fā)臺行星鍋是真空蒸發(fā)沉積金屬薄膜工藝的核心基片承載部件，其性能直接決定金屬薄膜厚度、成分的均勻程度，進(jìn)而影響半導(dǎo)體器件、精密電極等產(chǎn)品的導(dǎo)電性能與使用壽命。作為蒸發(fā)設(shè)備的關(guān)鍵組件，蒸發(fā)臺行星鍋通過獨(dú)特的復(fù)合運(yùn)動調(diào)節(jié)基片與金屬蒸發(fā)源的相對位置，適配金、銀、鋁等多種金屬薄膜的沉積需求，在高端制造領(lǐng)域不可或缺，其設(shè)計(jì)與運(yùn)行狀態(tài)是把控金屬薄膜沉積質(zhì)量的核心環(huán)節(jié)。

蒸發(fā)臺行星鍋的運(yùn)動模式是影響均勻度的核心因素。優(yōu)質(zhì)蒸發(fā)臺行星鍋可實(shí)現(xiàn)基片公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)的協(xié)同調(diào)控，使基片各區(qū)域均勻接收金屬蒸發(fā)粒子，有效緩解基片中心與邊緣的沉積差異，減少局部金屬薄膜過厚或過薄的問題，適配高精度金屬電極、導(dǎo)電層的沉積需求。

蒸發(fā)臺行星鍋的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也會間接作用于均勻度。其工位布局、承載面平整度需與金屬蒸發(fā)源參數(shù)合理匹配，多工位設(shè)計(jì)需保證各基片運(yùn)動軌跡一致性，避免基片傾斜導(dǎo)致金屬粒子沉積偏差；平整的承載面可減少粒子反射干擾，助力金屬薄膜成分與厚度保持一致。

此外，蒸發(fā)臺行星鍋的材質(zhì)特性影響均勻度穩(wěn)定性。采用耐高溫、低顆粒釋放材質(zhì)的蒸發(fā)臺行星鍋，可減少高溫沉積環(huán)境下的變形與雜質(zhì)脫落，避免污染金屬薄膜；運(yùn)動部件的穩(wěn)定運(yùn)行能降低基片振動，減少沉積波動，為金屬薄膜均勻度提供可靠支撐。