離子源設(shè)備中弧光室的常見(jiàn)結(jié)構(gòu)

弧光室是離子源設(shè)備的核心反應(yīng)單元，其造型設(shè)計(jì)直接影響離子散射范圍、電子運(yùn)動(dòng)軌跡及電離效率，適配不同功率、不同離子產(chǎn)出需求的離子源設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體離子注入、等離子刻蝕等工藝。弧光室的造型需貼合真空放電、高溫工作工況，兼顧密封性與離子引出便利性，常見(jiàn)造型各有適配場(chǎng)景，是離子源設(shè)備高效運(yùn)轉(zhuǎn)的重要基礎(chǔ)。

圓柱形是弧光室最常用的造型，適配多數(shù)通用離子源設(shè)備。該造型受力均勻、密封性佳，能減少離子在腔體內(nèi)的無(wú)序散射，同時(shí)便于加工制造、控制成本，可滿足中低功率離子源的電離需求，廣泛應(yīng)用于常規(guī)晶圓摻雜、材料改性等場(chǎng)景，是性價(jià)比突出的弧光室造型。

方形弧光室適配高功率、多電極布局的離子源設(shè)備。其內(nèi)部空間規(guī)整，可靈活安裝多組電極與磁場(chǎng)組件，擴(kuò)大電離反應(yīng)區(qū)域，提升離子密度，適配高劑量離子注入等嚴(yán)苛工藝，尤其適合工業(yè)規(guī)?；a(chǎn)場(chǎng)景，是兼顧功能性與拓展性的弧光室造型。

此外，球形弧光室是小眾專(zhuān)用造型，適配精密離子源設(shè)備。球形結(jié)構(gòu)能讓電子與氣體分子碰撞更均勻，減少局部電離不均的問(wèn)題，提升離子純度，適配高端半導(dǎo)體芯片制造等精密工藝。不同造型的弧光室，核心是貼合離子源設(shè)備的功率與工藝需求，實(shí)現(xiàn)高效電離。